● 采用氣體作為清洗介質(zhì)，避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。
● 可短時(shí)間內(nèi)清洗掉有機(jī)污染物。
● 清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。
● 可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
● 清洗過(guò)程中的輝光放電可對(duì)某些特殊用途的材料加強(qiáng)粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。
● 樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。
● 廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

● 電壓：AC220V  10A
● 消耗功率：<500W（包括真空泵）
● RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz
● 腔體：Φ190mm×98mm
● 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
● 內(nèi)腔：Φ165mm×55mm
● 清洗電極：Φ120mm
● 樣品臺(tái)：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
● 樣品臺(tái)與電極間距：15mm-50mm
● 可調(diào)抽氣管：Φ12mm
● 極限真空度：0.1Pa
● 工作真空度：60Pa-500Pa
● 氣路數(shù)量：2路（選裝）
● 流量控制器數(shù)量：1、2
● 流量顯示儀：2通道
● 氣路接口：Φ6mm
● 加熱樣品臺(tái)：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）
● 冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa
● 工作環(huán)境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對(duì)濕度）不結(jié)露，海拔高度0-2000m

● 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
● 重量：20kg（不含真空泵）

● 加熱樣品臺(tái)
● 流量控制器（量程10、50、100，最多可增加2個(gè)通道）